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作者:李豫弘
作者(英文):Yue-Hung Lee
論文名稱(中文):探討半導體業之水資源回收再利用及處理分析-NDL為例
論文名稱(英文):Study on the Water Management and Recovery for Semiconductor Industry –NDL as an Example
指導教授(中文):柯富祥
指導教授(英文):Fu-Hsiang Ko
學位類別:碩士
校院名稱:國立交通大學
系所名稱:工學院產業安全與防災學程
學號:9366508
出版年(民國):96
畢業學年度:95
語文別:中文
論文頁數:69
中文關鍵詞:水資源回收再利用
外文關鍵詞:Water Management and Recovery f
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本論文之研究目的在於探討半導體業之水資源回收再利用及處理分析之重要性,由於台灣需要的是建立一個整合國內奈米相關設備環境及提供對先進奈米製造和系統整合技術的機制,以增進國家研究資源的有效運用,因此國家奈米元件實驗室(NDL)提供國內學界所需之奈米尺度半導體製程與奈米元件技術實驗室研究環境,亦提供學界包含奈米電子、奈米光子、奈米生物元件,奈米功能性材料,以及與晶片系統整合技術的研究使用,技術諮詢和各類合作,提升我國科學技術的研發能量,增強台灣在此重要奈米科技領域的國際競爭力。
The objective of this paper is to study the importance of water-recovery/waste and water resources analysis and management for semiconductor industry. We need an organization which could provide integrated nano-related facility environment, advanced manufacturing and system integration to enhance the usage of national resource. NDL(National Nano Device Laboratories)provides below services to academic communities such as Laboratory environment with nanometer scale of semiconductor process and device - including nano-electronic, nano-photonic, nano-biological device and material, research in the system-on-chip, technical consultants and other cooperation. Thus, NDL could raise our research and design capabilities of our own country and be more competitive in nano-technology globally.
中文提要……………………………………………………… i
英文提要……………………………………………………… ii
誌謝 ……………………………………………………… iv
目錄 ……………………………………………………… v
表目錄 ……………………………………………………… vi
圖目錄 ……………………………………………………… viii
一、緒論……………………………………………………… 1
1.1研究目的…………………………………………………… 1
1.2研究方法…………………………………………………… 2
二、文獻回顧………………………………………………… 3
2.1.水資源回收再利用之現況……………………………… 3
2.2.水資源回收之技術與成本……………………………… 10
三、研究水資源回收再利用理論依據及策略……………… 26
3.1逆滲透原理………………………………………………… 26
3.2離子交換樹脂……………………………………………… 29
3.3化學混凝…………………………………………………… 34
3.4活性碳……………………………………………………… 35
3.5TOC儀器原理……………………………………………… 36
3.6製造流程改善措施………………………………………… 39
3.7水資源回收利用種類……………………………………… 41
3.8放流水之水質……………………………………………… 42
3.9自來水危機與開源節流…………………………………… 45
3.10廢水回收再利用之相關法令…………………………… 48
3.11廢水回收再利用之相關優惠獎勵措施………………… 53
四、節水方案規劃與探討…………………………………… 56
4.1真空脫氣塔冷卻水………………………………………… 56
4.2逆滲透膜濃縮水…………………………………………… 56
4.3空調冷凝水………………………………………………… 56
4.4化學機械研磨廢水………………………………………… 57
4.5限外濾膜濃縮水…………………………………………… 58
4.6離子交換樹脂再生廢水…………………………………… 58
4.7半導體製程機台廢水排放………………………………… 59
4.8延長機台再生反洗時間…………………………………… 60
五、結果與討論……………………………………………… 61
5.1台灣地區自來水資源比較統計…………………………… 61
5.2水平衡圖、製程回收率、全廠回收率及全廠排放率…… 61
5.3實驗室各項節省措施與水量彙整統計……………………… 65
六、結論、建議與展望…………………………………………… 66
6.1結論…………………………………………………………… 66
6.2建議…………………………………………………………… 66
6.3未來展望……………………………………………………… 67
參考文獻 …………………………………………………… 68
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